VOLCANO® LB 750UVC Laser Optik
Systeme > LCD & OLED Anwendungen
Laser-Optik-System für eine Laserlinie von 300 - 750mm Länge mit gepulsten UV-Festkörperlasern
VOLCANO® Line Beam Systeme können mit verschiedenen Linienlängen bis zu 750mm und 1000mm gebaut werden. Die Verwendung von Festkörperlasern bei 343nm reduziert die Betriebskosten und verbessert den Nutzungsgrad im Vergleich zu Excimerlasern.
LB Optiksysteme bestehen aus einer stabilen Aluminiumstruktur und die FALCON XXL Linsen zeichnet sich durch einen großen Arbeitsabstand von >200mm aus. Zur Integration ist eine solide Basis notwendig, die dafür sorgt, dass Laser-Optik-Substrat stabil aufgebaut sind. Line Beam Systeme werden mit einem MBC (Manual Beam Control) Kamera System ausgestattet, mit denen die Position und der Winkel der Laserstrahlen (Freistrahlführung) überwacht werden können und nachgestellt werden können. Das FALCON 750XXL Design enthält ein Fenster, das die Prozesskammer sicher von der Line Beam Optik trennt und Verschmutzungen der Optik verhindert.
Die Energiedichte von >500mJ/cm² wird mit 6 TruMicro 7370 in einer 750mm langen Linie mit 20µm FWHM Breite erreicht (Laserpulsenergie 20mJ).
VOLCANO LB 750UVC-6 Konfiguration mit “µ-smoothing mirror” Option
Anwendungsgebiete
VOLCANO Laser Optik erzeugt eine Laserlinie, die zum Annealing und Kristallisieren dünner Halbleiterschichten, insbesondere von amorphen Si-Schichten eingesetzt wird. Dünne Siliziumschichten von typisch 50nm werden in der Herstellung von Dünnfilmtransistoren (Thin Film Transistor, TFT) in LCD und OLED Flachbildschirmen benötigt.
Technische Daten: VOLCANO® LB 750UVC-4 | ||
Wellenlänge: | 343 nm | |
Linienlänge: | 750mm (top-hat-Profil) | |
Linienbreite: | 20-30µm FWHM (Gaussprofil) | |
Homogenität: | <=3% (p2p ~6Sigma) | |
Energiedichte: | >=300mJ/cm² @ 20µm FWHM | |
Pulslänge: | ~15-20ns, kann durch verzögertes Triggern der 4 Laserquellen vergrößert werden | |
Repetitionsrate: | 10kHz | |
Laser: | 4x TruMicro 7370, Trumpf Lasertechnik, Germany | |
Diagnostik: | Laserleistung, Leistung am Substrat, Strahlprofilmessung am Substrat, schnelle Photodiode | |
Andere Liniengrößen und Konfigurationen auf Anfrage. |
Technische Daten: VOLCANO® LB 750UVC-6 | ||
Wellenlänge: | 343 nm | |
Linienlänge: | 750mm (top-hat-Profil) | |
Linienbreite: | 20-30µm FWHM (Gaussprofil) | |
Homogenität: | <=3% (p2p ~6Sigma) | |
Energiedichte: | >=300mJ/cm² @ 30µm FWHM, >=500mJ/cm² @ 20µm FWHM | |
Pulslänge: | ~15-20ns, kann durch verzögertes Triggern der 6 Laserquellen vergrößert werden | |
Repetitionsrate: | 10kHz | |
Laser: | 6x TruMicro 7370, Trumpf Lasertechnik, Germany | |
Diagnostik: | Laserleistung, Leistung am Substrat, Strahlprofilmessung am Substrat, schnelle Photodiode | |
Andere Liniengrößen und Konfigurationen auf Anfrage. |
Laser Optics for LCD and OLED Display | ||||
VOLCANO® Laser
Optik besteht aus einem integrierten Abschwächer Modul zur Einstellung der
Energiedichte. Darüber hinaus können Leistungsmessköpfe und eine Strahlprofilmessung
integriert werden.